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超纯水系统设备

简要描述:超纯水系统设备主要用途:
微电子产品生产用高纯水,半导体、显象管制造业用超纯水,集成电路板生产清洗用超纯水,蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水,本设备主要采用反渗透和EDI+抛光混床技术制备超纯水。

  • 产品型号:KX4
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-09-16
  • 访  问  量:651
详细介绍
品牌其他品牌产地国产
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
电导率0.1μS/cm电阻率18.2MΩ·cm

超纯水系统设备主要用途:

微电子产品生产用高纯水,半导体、显象管制造业用超纯水,集成电路板生产清洗用超纯水,蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池等生产用水,本设备主要采用反渗透和EDI+抛光混床技术制备超纯水。


半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、大规模集成电路需用大量的超纯水,超纯水清洗半成品、成品,集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,以区分不同水质。

 

 

 

超纯水系统设备有如下优点:

①水质稳定;

②容易实现全自动控制;

③不会因ZS而停机;

④不需化学ZS;

⑤运行费用低;

⑥占地面积小;

⑦无污水排放;


为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。

在工艺设计上,取达到国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床系统(EDI电除盐系统)等。


系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。


 


 

 

 
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